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拋光機的六大(dà)方法

信息來(lái)源於:互聯網 發布於:2021-01-20

 1 機械拋光

  機械拋光是靠切削、材料表麵塑性變形去(qù)掉被拋(pāo)光後的凸部而得到平滑麵(miàn)的(de)拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂(shā)紙等,以(yǐ)手工操作為主,特殊零件如回轉體表麵,可使用轉台等輔助工(gōng)具,表麵質(zhì)量 要(yào)求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特製的磨具,在(zài)含有磨料的研(yán)拋液中,緊壓在工件(jiàn)被加(jiā)工表麵上,作高(gāo)速旋轉運(yùn)動。利用該技術可以達到(dào) Ra0.008 μ m 的表麵粗糙度(dù),是各種拋光方法中最高的。光學鏡片模(mó)具常采用這(zhè)種方法。

  2 化學拋光

  化學拋光是讓材料在化學介質中表麵微觀凸出的部分較凹部分優先溶解(jiě),從而得到平滑麵。這(zhè)種方法的主要優點是不需複雜設備,可以拋光形狀複雜(zá)的工件,可以同時拋光很多工件,效率高。化學拋光的核心問題是拋光液的配製。化學拋光得(dé)到的表麵粗糙度一般為數 10 μ m 。

  3 電解拋光

  電解拋光基本原(yuán)理與化學拋光相同,即靠選擇性的(de)溶解材料表麵微小凸(tū)出部分,使表麵光滑。與化學拋(pāo)光相比,可以(yǐ)消除陰極反應的影響,效果較好。電化學拋光過程分為兩步(bù):

  ( 1 )宏觀整平 溶解產物向電解液中擴散(sàn),材料表(biǎo)麵幾何粗(cū)糙下降, Ra > 1 μ m 。

  ( 2 )微光平整 陽(yáng)極極(jí)化,表麵光亮度提高, Ra < 1 μ m 。

  4 超聲波拋光

  將工件放入(rù)磨料懸浮液中並一起置於超聲波場中,依靠超聲波的振蕩作用,使磨料在工(gōng)件表(biǎo)麵磨削拋光。超聲波加工宏觀力小,不會(huì)引起工件變形,但工裝製作和安裝較困難。超聲波加工可以與化(huà)學或電化學方法結合。在溶液腐(fǔ)蝕、電解的基礎上(shàng),再施加(jiā)超(chāo)聲波振動攪拌溶液,使工件表麵溶解產(chǎn)物脫離,表麵附近的腐蝕(shí)或電解質均勻;超聲波在液體中的(de)空化作用還能(néng)夠抑製腐蝕過程,利於表麵光亮化。

  5 流體拋光

  流體拋光是依靠高速流動的液體及其攜帶的磨粒衝刷工件表麵達(dá)到拋光的目的。常用方法有:磨料噴射加工(gōng)、液體噴射加工、流體動力研(yán)磨等。流體動力研磨(mó)是由液壓驅動,使攜帶磨(mó)粒的液體介質高速往複流過工件表麵(miàn)。介(jiè)質主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合(hé)物(聚合物狀物質)並(bìng)摻上磨料製成,磨料可采用碳(tàn)化矽粉末。

  6 磁(cí)研磨拋光

  磁研磨拋光機是利用磁(cí)性磨料在磁場作用下形成磨料刷,對工件磨削加工(gōng)。這種方法加工效率高,質量好,加工條件容易控(kòng)製,工作(zuò)條(tiáo)件好。采用合適的(de)磨(mó)料,表麵粗糙度可以達到 Ra0.1 μ m 。

  在塑料模具加工中所(suǒ)說(shuō)的(de)拋光與其他行業中(zhōng)所要求的表麵拋光(guāng)有很大的不同,嚴格來說,模具的拋光應該稱為(wéi)鏡(jìng)麵加工。它(tā)不僅對拋光本身有很高的要求並且對(duì)表麵平整度(dù)、光滑度以及幾何精(jīng)確度也有很(hěn)高的標準。表麵拋光(guāng)一般隻要求獲得光亮的表(biǎo)麵即可。鏡麵加工的標(biāo)準分為四級: AO=Ra0.008 μ m , A1=Ra0.016 μ m , A3=Ra0.032 μ m , A4=Ra0.063 μ m ,由於電解拋光(guāng)、流體拋光等方法很難精確控製零件的幾何精確度,而化學拋光、超聲波拋光、磁研(yán)磨拋(pāo)光等(děng)方法(fǎ)的表麵質量又(yòu)達不(bú)到要求,所以精密模具(jù)的鏡麵加工還是以機械拋光為主。
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